한국표준과학연구원(KRISS)은 24일 원내 행정동에서 차세대 반도체 기술의 핵심인 실시간 공정 모니터링 관련 기술을 주제로 '제2회 반도체공정진단 워크숍'을 개최한다고 23일 밝혔다.

산학연과계자가 참여하는 이번 워크숍에서 KRISS는 플라즈마 공정진단, CVD/ALD 공정 진단, 오염원 및 펌프진단, 관련 데이터처리 개발 현황 등에 대해 집중 논의할 예정이다.

특히 카네기멜론대 스트로지바스(Andrzej J. Strojwas) 교수의 '공정과 수율 상관관계의 총체적 모델링', 스트라툼사 마커스 캐버리(Marcus Cabery) 기술총괄팀장의 'RF센서를 이용한 실시간 박막공정진단'을 주제로 한 특별 초청 세미나도 마련돼 관심을 끌고 있다.

또 서울대 김곤호 교수의 '전기신호를 이용한 공정 플라즈마 진단 기술 개발 현황', KRISS 강상우 박사의 'CVD 공정진단 및 오염도평가 연구', 삼성전자 이헌정 수석의 '반도체 설비 Catacterization and Contol' 등 전문가 발표에 이어 함께 장비전시회도 선보인다.